2000 mesh silicijev dioksid v prahu

2000 mesh silicijev dioksid v prahu
Podrobnosti:
Silicijev dioksid v prahu 2000 mesh (velikost delcev približno 5 mikronov) je eden najboljših izdelkov v seriji silicijevega dioksida v prahu, njegova priprava pa je model tehnologije obdelave mikro-prahov. Takšni izdelki pogosto zahtevajo kombinacijo najnaprednejše opreme za ultra-fino mletje (npr. visoko-precizni mlini s curkom), strog nadzor temperature in vlažnosti ter izjemno natančno tehnologijo razvrščanja (npr. uporaba več visoko{10}}zmogljivih klasifikatorjev v seriji), da se odstrani celo minimalna količina grobih delcev, s čimer se zagotovi, da je porazdelitev velikosti delcev koncentrirana v ozkem območju mikronov.
Pošlji povpraševanje
Opis
Pošlji povpraševanje

Silicijev dioksid v prahu 2000 mesh (velikost delcev približno 5 mikronov) je eden najboljših izdelkov v seriji silicijevega dioksida v prahu, njegova priprava pa je model tehnologije obdelave mikro-prahov. Takšni izdelki pogosto zahtevajo kombinacijo najnaprednejše opreme za ultra-fino mletje (npr. visoko-precizni mlini s curkom), strog nadzor temperature in vlažnosti ter izjemno natančno tehnologijo razvrščanja (npr. uporaba več visoko{10}}zmogljivih klasifikatorjev v seriji), da se odstrani celo minimalna količina grobih delcev, s čimer se zagotovi, da je porazdelitev velikosti delcev koncentrirana v ozkem območju mikronov. Surovine je treba temeljito prečistiti, da se zagotovi, da vsebnost težkih kovin, indikatorji radioaktivnosti itd. ustrezajo elektronskim ali višjim standardom.


Na tej ravni je velikost delcev silicijevega prahu 2000 mesh že primerljiva z valovno dolžino vidne svetlobe, zato ima nekaj posebnih lastnosti. Lahko doseže zelo visoko gostoto embalaže v kompozitnih materialih, s čimer maksimira izboljšanje učinkovitosti matričnega materiala. V najvišjih-elektronskih aplikacijah je 2000 Mesh Silica Powder ključno polnilo za proizvodnjo naslednje-generacije visokozmogljivih-polprevodniških embalažnih materialov, podlag za integrirana vezja in nizko-izgube visokofrekvenčnega-CCL, ki igra odločilno vlogo pri zagotavljanju celovitosti prenosa signala, miniaturizacije naprave in visoke zanesljivost. Na optičnem področju se lahko uporablja za pripravo visoko prosojnih optičnih epoksi smol, prevlek za optična vlakna in polirnih zmesi za različne natančne optične komponente. V specializirani inženirski plastiki lahko dodajanje 2000 mesh silicijevega dioksida v prahu ustvari kompozitne materiale z izjemno visoko togostjo, toplotno odpornostjo in dimenzijsko stabilnostjo, ki se uporabljajo za zamenjavo kovin pri izdelavi natančnih delov. Pri vrhunskih-barvah in črnilih lahko doseže izjemno gladke in ravne barvne filme ter živahne barve. Zaradi visokih tehničnih ovir in proizvodnih stroškov se prašek silicijevega dioksida 2000 Mesh v glavnem dobavlja visoko-tehnološkim industrijam z izjemnimi zahtevami glede učinkovitosti materiala, ki si resnično zasluži naziv "industrijski mononatrijev glutamat".
 

Priljubljena oznake: 2000 mesh kremenčev prah, Kitajska 2000 mesh silicijev dioksid v prahu proizvajalci, dobavitelji, tovarna

Pošlji povpraševanje