2000 mesh taljeni kremenčev prah (velikost delcev približno . 4.5 mikronov) je vrhunec tehnologije taljenega kremenčevega prahu, na čelu prehoda iz laboratorijske v industrijsko uporabo. Velikost njegovih delcev je že blizu pod-mikronske ravni in v mnogih pogledih kaže lastnosti,-podobne nanomaterialom. Proizvodnja taljenega kremenčevega prahu takšne finosti ne zahteva samo tehnologije ultra-mikro mletja, temveč tudi obsežne vrhunske-raziskave na področjih, kot sta modifikacija površine delcev in stabilizacija disperzije.
Trenutno je uporaba tega izdelka v glavnem osredotočena na najnaprednejša-raziskovalna področja in razvoj prototipov elektronske-generacije tehnologij. Na primer, pri razvoju novih embalažnih arhitektur ali dielektričnih materialov znotraj-čipov, ki se lahko pojavijo v »post-dobi Moore«, se lahko preučuje 2000 mesh taljeni kremenčev prah kot ključni kandidatni material za doseganje skoraj-ničelne toplotne ekspanzije in ultra-nizke dielektrične izgube. Njegove raziskovalne aplikacije je mogoče najti tudi v visoko{9}}zmogljivih povezavah za kvantne računalnike in zaščitni embalaži superprevodnih vezij. Zaradi svoje ogromne specifične površine je tudi po aktivacijski obdelavi problem visoke viskoznosti v smoli velik tehnični izziv, ki običajno zahteva uporabo v kombinaciji s praški različnih velikosti delcev (tj. ustvarjanje največje porazdelitve gostote pakiranja). Zato 2000 mesh taljeni kremenčev prah bolj predstavlja tehnološko rezervo in usmeritev raziskav in razvoja, ki simbolizira končno zmogljivost podjetja na področju obdelave ultra-finega prahu, ki se pripravlja na prihodnje tehnološke ponovitve in zahteve trga.
Priljubljena oznake: 2000 mesh taljenega silicijevega dioksida v prahu, Kitajska 2000 mesh taljenega silicijevega dioksida v prahu proizvajalci, dobavitelji, tovarna
